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低檢出限 

QJet離子導(dǎo)入技術(shù)可以獲得低的檢出限，集合QJet離子導(dǎo)入技術(shù)、TURBO VTM離子源、和新一代Analyst軟件，使其成為適合開發(fā)每階段的經(jīng)用、高通量的分析平臺(tái)

除交叉污染 

QJet離子導(dǎo)入技術(shù)，通過(guò)捕獲和聚焦多由TURBO V離子源產(chǎn)生的離子，大幅提了敏度。即使對(duì)于高濃度樣品，TURBO V離子源也可除交叉污染。

選項(xiàng)提通量 

可選的DuoSpray離子源是快方法開發(fā)和提通量的理想工具，該離子源有TurboIonSpray離子源和APCI兩種接口，對(duì)于液相運(yùn)行中的每個(gè)化合物，都可用計(jì)算機(jī)控制來(lái)優(yōu)化離子化參數(shù)。另一個(gè)可選件是大氣壓光電離PhotoSpray源，

加了分析的可能性。

無(wú)人值守的高通量操作

API 5000系統(tǒng)傳承了AB SCIEX經(jīng)用、靠譜的三重四極桿技術(shù)，自動(dòng)化特性使其在法規(guī)高通量實(shí)驗(yàn)室能夠連續(xù)的高負(fù)荷工作。

即使您剛接觸質(zhì)譜，API 5000系統(tǒng)也可使您輕得到您想要的答案。從自動(dòng)方法開發(fā)到快、簡(jiǎn)單的常規(guī)維護(hù)，API 5000系統(tǒng)是易用的三重四極桿。

可選的DuoSpray離子源--快方法開發(fā)和增加分析通量

可選的PhotoSpray 離子源--擴(kuò)展了儀器的應(yīng)用領(lǐng)域